Herstellung von dünnen Schichten aus Titannitrid (TIN) durch ALD-Verfahren
ALD-Verfahren zur Herstellung von dünnen Schichten aus Titannitrid (TiN) durch Atomlagenabscheidung (ALD)
Schablonen mit Nano-Prägung - Löcher-Arrays
4"-Nanoschablone für Anwendungen wie Nanofilter, Nanosensoren usw. zur Steuerung des Transports, der Trennung und des Nachweises von Substanzen für hochempfindliche Analyse- und Nachweisverfahren
Datenblatt
Produktblatt für Nanoimprinting-Schablonen
Einzelheiten zum Produkt
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Sechseckige Anordnungen
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Sechseckiges Array II
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Quadratische Arrays
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Merkmale und Vorteile
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Beschreibung
| Periodizität | Effektive Fläche | Maximale Ätztiefe (Silizium/Quarz) | Durchmesser der Bohrung | Modell |
| 200nm | φ 94 mm | 120nm/100nm | 90-120 nm | H200H_D100 |
| 350nm | φ 94 mm | 200nm/100nm | 120-170 nm | H350H_D100 |
| 450nm | φ 50 mm | 350nm/150nm | 220-260 nm | H450H_D50 |
| 500nm | φ 94 mm | 500nm/300nm | 250-300 nm | H500H_D100 |
| 600nm | φ 94 mm | 450nm/200nm | 250-300 nm | H600H_D100 |
| 750nm | 51x51 mm² | 450nm/200nm | 250-350 nm | H750H_51x51 |
| 780nm | φ 50 mm | 450nm/200nm | 250-380 nm | H780H_D50 |
| 870nm | φ 94 mm | 550nm/250nm | 300-45 nm | H870H_D100 |
| 1000nm | φ 94 mm | 600nm/300nm | 300~500 nm | H1000H_D100 |
| 1500nm | 51x51 mm² | 600nm/300nm | 400~650 nm | H1500H_51x51 |
| 1700nm | φ 94 mm | 800nm/400nm | 500~800 nm | H1700H_D100 |
| 2000nm | φ 94 mm | 800nm/400nm | 600~1100 nm | H2000H_D100 |
| 3000nm | φ 94 mm | 1000nm/400nm | 600~1400 nm | H3000H_D100 |
| 3500nm | φ 94 mm | 1200nm/500nm | 800~1600 nm | H3500H_D100 |
| 5200nm | φ 94 mm | 1200nm/500nm | 1200~2400 nm | H5200H_D100 |
| Periodizität | Effektive Fläche | Maximale Ätztiefe (Silizium) | Durchmesser der Bohrung | Modell |
| 200nm | 20x20 mm² | 200 nm | 100 nm | H200H_20x20 |
| 345nm | 20x20 mm² | 200 nm | 227 nm | H345H_20x20 |
| 500nm | 0,2x0,2 mm² (9x) | 110 nm | 50 nm | H500H_02x02 |
| 600nm | 20x20 mm² | 300 nm | 300 nm | H600H_25x25 |
| 750nm | 25x25 mm² | 420 nm | 380 nm | H750H_25x25 |
| 1000nm | 0,2x0,2 mm² (9x) | 110 nm | 100 nm | H1000H_02x02 |
| 1010nm | 15x15 mm² | 300 nm | 390 nm | H1010H_15x15 |
| 1010nm | 25x25 mm² | 300 nm | 490 nm | H1010H_25x25 |
| 1010nm | 25x25 mm² | 350 nm | 470 nm | H1010H_25x25 |
| 2000nm | 0,2x0,2 mm² (9x) | 110 nm | 200 nm | H2000H_02x02 |
| 3000nm | 20x20 mm² | 850 nm | 1500 nm | H3000H_20x20 |
| 3000nm | 20x20 mm² | 1500 nm | 1200 nm | H3000H_20x20 |
| Periodizität | Effektive Fläche | Maximale Ätztiefe (Silizium/Quarz) | Durchmesser der Bohrung | Modell |
| 125nm | φ 90mm | 150nm/100nm | 50-70 nm | H125S_D90 |
| 125nm | 20x20 mm² | 90nm/- | 65 nm | H125S_20x20 |
| 140nm | Φ 80mm | 150nm/100nm | 60~80 nm | H140S_D80 |
| 150nm | φ 90mm | 150nm/100nm | 60-90 nm | H150S_D90 |
| 150nm | 5x5 mm² | 100nm/- | 65 nm | H150S_5x5 |
| 190nm | φ 94mm | 180nm/140nm | 85~115 nm | H190S_D100 |
| 200nm | φ 90mm | 200nm/150nm | 70-120 nm | H200S_D90 |
| 200nm | 5x5 mm² | 110nm/- | 70 nm | H200S_5x5 |
| 235nm | φ 94mm | 200nm/150nm | 100 bis 135 nm | H235S_D100 |
| 250nm | 5x5 mm² | 110nm/- | 70 nm | H250S_5x5 |
| 300nm | φ 90mm | 200nm/150nm | 120-180 nm | H300S_D90 |
| 350nm | φ 94mm | 300nm/150nm | 240 bis 280 nm | H350S_D100 |
| 350nm | 20x20 mm² | 300nm/- | 250 nm | H350S_20x20 |
| 375nm | φ 94mm | 200nm/100nm | 150 bis 250 nm | H375S_D100 |
Merkmale und Vorteile:
Hohe Auflösung: Unsere Nanoimprint-Schablonen verfügen über ein ausgezeichnetes Auflösungsvermögen, mit dem komplexe Muster im Nanobereich erzeugt werden können. Diese hohe Auflösung macht sie ideal für die Untersuchung von Phänomenen im Nanobereich und die Herstellung von Nanobauteilen.
Hohe Präzision: Unser Schablonenherstellungsprozess nutzt fortschrittliche Nanofabrikationstechnologie, um ein hohes Maß an Konsistenz und Präzision zu gewährleisten. Diese hohe Präzision gewährleistet, dass jede Schablone zuverlässige und wiederholbare Ergebnisse bei der Musterübertragung liefert.
Vielseitigkeit: Unsere Nanoimprinting-Schablone kann in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt werden. Sie kann für die Herstellung von nanoelektronischen Bauteilen wie Nanotransistoren und Nanodrähten verwendet werden. Sie kann auch für die Herstellung optoelektronischer Bauteile wie Nanogitter und photonische Kristalle verwendet werden. Darüber hinaus gibt es ein breites Spektrum von Anwendungen im biomedizinischen Bereich, wie die Herstellung von Biochips und Nanosensoren.
Effizient: Unser Nanoimprint-Schablonenherstellungsprozess ist effizient und skalierbar. Es kann in Massenproduktion hergestellt werden und eignet sich für große Produktionsanforderungen. Diese hohe Effizienz macht unsere Produkte zur ersten Wahl für die Forschung in Industrie und Wissenschaft.
Personalisierung: Wir können kundenspezifische Nano-Prägeschablonen anbieten, die den Bedürfnissen unserer Kunden entsprechen. Ob es sich um ein spezielles grafisches Design oder eine besondere Materialanforderung handelt, unser Team kann die beste Lösung für Sie maßschneidern.
Sechseckige Lochanordnungen und rechteckige Lochanordnungen in Nanoimprint-Schablonen sind zwei gängige Muster lochartiger Strukturen, die für die präzise Übertragung und Präparation von Mustern im Nanomaßstab verwendet werden.
Diese beiden Arten von Lochreihenschablonen bieten eine hohe Gleichmäßigkeit und Reproduzierbarkeit bei der Präparation im Nanoimprinting und sind in der Lage, die Anforderungen an eine präzise Nanostrukturpräparation zu erfüllen. Sie bieten wichtige Werkzeuge und Lösungen für Bereiche wie die Nanofabrikation, die Forschung an Nanobauteilen und biomedizinische Anwendungen.
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