Herstellung von dünnen Schichten aus Titannitrid (TIN) durch ALD-Verfahren
ALD-Verfahren zur Herstellung von dünnen Schichten aus Titannitrid (TiN) durch Atomlagenabscheidung (ALD)
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Vorteile von Siliziumnitridschichten:
Unsere Produktvorteile:
Perforierte Siliziumnitrid-Folienfenster haben gegenüber normalen Siliziumnitrid-Folienfenstern ohne Perforation folgende Vorteile:
Verbesserte Materialtransmission: Perforierte Siliziumnitrid-Folienfenster haben eine hohe Transmissionsrate, da die Löcher die Wahrscheinlichkeit verringern, dass Licht von der Folie absorbiert wird, wodurch die Transmissionsrate erhöht wird.
Verbesserte Probenahmegeschwindigkeit: Die Öffnungen im Fenster der perforierten Siliziumnitridfolie fördern die Belüftung der Probe und verringern die Isolierung zwischen Probe und Umgebung, wodurch die Zeit für die Datenerfassung verkürzt wird. Dies ist ein Vorteil bei Anwendungen, die eine hohe Belüftung und Erfassungsgeschwindigkeit erfordern.
Verbesserte Materialstabilität: Die perforierten Siliziumnitrid-Dünnschichtfenster werden so hergestellt, dass die Eigenspannung und der thermische Ausdehnungskoeffizient des Materials aufgrund seiner gut durchdachten Struktur reduziert werden, wodurch die Stabilität und Zuverlässigkeit des Materials verbessert wird.
Verbesserte Haltbarkeit: Das Fenster aus perforierter Siliziumnitridfolie ist strukturell so konzipiert, dass es korrosions- und verschleißbeständiger ist. Dies verschafft ihr einen Vorteil bei Anwendungen, die eine lange Nutzungsdauer erfordern.
Verbesserter Fluss: Die große offene Fläche des perforierten Siliziumnitrid-Filmfensters ermöglicht einen verbesserten Fluss. Dies verschafft ihm einen Vorteil bei Anwendungen, die hohe Flussmittel erfordern.
Zusammenfassend lässt sich sagen, dass Siliziumnitrid-Dünnschichtfenster mit Löchern bessere optische Eigenschaften aufweisen als gewöhnliche Siliziumnitrid-Dünnschichtfenster ohne Löcher. Aus diesem Grund sind perforierte Siliziumnitrid-Filmfenster oft die bevorzugte Wahl für Anwendungen zur Materialcharakterisierung.
ALD-Verfahren zur Herstellung von dünnen Schichten aus Titannitrid (TiN) durch Atomlagenabscheidung (ALD)
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