Herstellung von dünnen Schichten aus Titannitrid (TIN) durch ALD-Verfahren
ALD-Verfahren zur Herstellung von dünnen Schichten aus Titannitrid (TiN) durch Atomlagenabscheidung (ALD)
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1. die Transparenz: Reine Silizium-Dünnschichtfenster sind ein sehr transparentes Material mit hoher Lichtdurchlässigkeit und geringer Streuung. Dies macht sie ideal für Anwendungen, die eine hohe Klarheit erfordern, wie z. B. optische Mikroskope, Solarzellen und optische Sensoren.
2. hohe Stabilität: Reine Silizium-Folienfenster sind sehr stabil und können rauen Umgebungen wie hohen Temperaturen, hoher Luftfeuchtigkeit und starken Säuren standhalten. Dadurch sind sie ideal für Anwendungen, die eine langfristige Stabilität erfordern, wie z. B. in der Mikroelektronik und Nanotechnologie.
3. geringer Lichtverlust: Reine Silizium-Dünnschichtfenster haben ein geringes Reflexionsvermögen und eine geringe Absorption und können daher den Verlust von Lichtsignalen verringern. Dies macht sie ideal für Anwendungen, die eine hohe Empfindlichkeit erfordern, wie z. B. optische Sensoren und optische Kommunikation.
Ein reines Silizium-Dünnschichtfenster ist ein transparentes Fenstermaterial, das in der Regel aus einkristallinen Siliziumscheiben hergestellt wird. Es hat eine hohe Lichtdurchlässigkeit und eine hohe mechanische Stabilität, weshalb es in der wissenschaftlichen Forschung und der industriellen Produktion weit verbreitet ist.
Siliziummaterialien haben eine hervorragende Transmission im sichtbaren Bereich und können eine ausgezeichnete Dispersion im infraroten und ultravioletten Spektralbereich aufweisen. Silizium-Dünnschichtfenster haben in der Regel eine Dicke von einigen Mikrometern bis zu einigen Dutzend Mikrometern und können an die Anforderungen der jeweiligen Anwendung angepasst werden. Sie können hohen Drücken und hohen Temperaturen standhalten und werden daher häufig bei chemischen Reaktionen, Hochtemperaturoxidation und der Verarbeitung von geschmolzenem Metall eingesetzt.
Darüber hinaus weisen Dünnschichtfenster aus reinem Silizium eine geringe spontane Lichtemission und eine geringe spontane Wärmeentwicklung auf, was zu ihrem Einsatz in einer Vielzahl von Anwendungen in der Präzisionsoptik und Optoelektronik geführt hat.
ALD-Verfahren zur Herstellung von dünnen Schichten aus Titannitrid (TiN) durch Atomlagenabscheidung (ALD)
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