Herstellung von dünnen Schichten aus Titannitrid (TIN) durch ALD-Verfahren
ALD-Verfahren zur Herstellung von dünnen Schichten aus Titannitrid (TiN) durch Atomlagenabscheidung (ALD)
Schablonen mit Nano-Prägung - Drahtgitter-Arrays
Vier-Zoll-Nanoimprint-Schablonen für hochauflösende Musterübertragung im Nanomaßstab. Weit verbreitet in den Bereichen Nanoelektronik, Optoelektronik, Biomedizin und Photonik.
Datenblatt
Produktblatt für Nanoimprinting-Schablonen
Einzelheiten zum Produkt
| Periodizität | Effektive Fläche | Maximale Ätztiefe (Silizium/Quarz) | Linienbreite | Modell |
| 125nm | φ 80 mm | 100 nm/80 nm | 50~80 nm | L125_D80 |
| 140nm | φ 80 mm | 100 nm/80 nm | 50 bis 85 nm | L140_D80 |
| 150nm | φ 90 mm | 75 nm/80 nm | 60~100 nm | L150_D90 |
| 200nm | φ 90 mm | 150 nm/120 nm | 60-120 nm | L200_D90 |
| 250nm | φ 94 mm | 200 nm/100 nm | 90 bis 130 nm | L250_D100 |
| 280nm | φ 80 mm | 200 nm/100 nm | 100~150 nm | L280_D80 |
| 300nm | φ 94 mm | 300 nm/100 nm | 100-160 nm | L300_D100 |
| 380nm | φ 94 mm | 400 nm/300 nm | 200-270 nm | L380_D100 |
| 400nm | φ 94 mm | 300 nm/150 nm | 100~200 nm | L400_D100 |
| 470nm | φ 94 mm | 500 nm/400 nm | 200-270 nm | L470_D100 |
| 500nm | φ 94 mm | 400 nm/200 nm | 150 bis 250 nm | L500_D100 |
| 560nm | φ 80 mm | 400 nm/200 nm | 150~280 nm | L560_D80 |
| 600nm | φ 94 mm | 500 nm/250 nm | 150 bis 300 nm | L600_D100 |
| 760nm | φ 94 mm | 700 nm/600 nm | 320~430 nm | L760_D100 |
| 800nm | φ 94 mm | 600 nm/300 nm | 200-400 nm | L800_D100 |
| 1000nm | φ 94 mm | 800 nm/400 nm | 200-500 nm | L1000_D100 |
| 1300nm | 75x55 mm² | 1000 nm/500 nm | 300~650 nm | L1300_75x55 |
| Periodizität | Effektive Fläche | Maximale Ätztiefe (Silizium) | Linienbreite | Modell |
| 125nm | 18x18 mm² | 120 nm | 60 nm | L125_18x18 |
| 150nm | 15x15 mm² | 150 nm | 75 nm | L150_15x15 |
| 200nm | 20x20 mm² | 60 nm/90 nm | 100 nm | L200_20x20 |
| 300nm | 30x30 mm² | 170 nm | 170 nm | L300_30x30 |
| 375nm | 20x20 mm² | 264 nm | 240 nm | L375_20x20 |
| 550nm | 20x20 mm² | 300 nm | 288 nm | L550_20x20 |
| 600nm | 20x20 mm² | 100 nm | 400 nm | L600_20x20 |
| 800nm | 20x20 mm² | 380 nm | 400 nm | L800_20x20 |
| 1300nm | φ 50 mm | 480 nm | 750 nm | L1300_D50 |
| 4000nm | 32x32 mm² | 2000 nm/2300 nm | 2000 nm | L4000_32x32 |
| 4800nm | 25x25 mm² | 2600 nm/3200 nm | 2200 nm | L4800_25x25 |
| Periodizität | Effektive Fläche | Maximale Ätztiefe | Linienbreite | Modell |
| 10μm | 20x20 mm² | 5 μm (Silizium) | 400 nm | VL10_20x20 |
| 80 μm | φ 100 mm | 7,5 μm (Ni) | 4 μm | VL80_D100 |
Merkmale und Vorteile:
Hohe Auflösung: Unsere Nanoimprint-Schablonen verfügen über ein ausgezeichnetes Auflösungsvermögen, mit dem komplexe Muster im Nanobereich erzeugt werden können. Diese hohe Auflösung macht sie ideal für die Untersuchung von Phänomenen im Nanobereich und die Herstellung von Nanobauteilen.
Hohe Präzision: Unser Schablonenherstellungsprozess nutzt fortschrittliche Nanofabrikationstechnologie, um ein hohes Maß an Konsistenz und Präzision zu gewährleisten. Diese hohe Präzision gewährleistet, dass jede Schablone zuverlässige und wiederholbare Ergebnisse bei der Musterübertragung liefert.
Vielseitigkeit: Unsere Nanoimprinting-Schablone kann in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt werden. Sie kann für die Herstellung von nanoelektronischen Bauteilen wie Nanotransistoren und Nanodrähten verwendet werden. Sie kann auch für die Herstellung optoelektronischer Bauteile wie Nanogitter und photonische Kristalle verwendet werden. Darüber hinaus gibt es ein breites Spektrum von Anwendungen im biomedizinischen Bereich, wie die Herstellung von Biochips und Nanosensoren.
Effizient: Unser Nanoimprint-Schablonenherstellungsprozess ist effizient und skalierbar. Es kann in Massenproduktion hergestellt werden und eignet sich für große Produktionsanforderungen. Diese hohe Effizienz macht unsere Produkte zur ersten Wahl für die Forschung in Industrie und Wissenschaft.
Personalisierung: Wir können kundenspezifische Nano-Prägeschablonen anbieten, die den Bedürfnissen unserer Kunden entsprechen. Ob es sich um ein spezielles grafisches Design oder eine besondere Materialanforderung handelt, unser Team kann die beste Lösung für Sie maßschneidern.
Eine Nanoimprinting-Schablone (Drahtgittermatrix) ist eine Schlüsselkomponente für die Nanoimprinting-Technologie. Es handelt sich um eine Schablone, die aus Drahtgittermustern im Nanomaßstab besteht, die eine hochauflösende Musterübertragung auf die Oberfläche eines Zielmaterials ermöglichen.
Das Hauptmerkmal von nanoimprinted Stencils (Drahtgitterarrays) ist ihre Drahtgitterstruktur. Ein Drahtgitter ist ein Muster aus langen, dünnen, parallel angeordneten Streifen. Der Abstand und die Größe dieser Gitter können auf der Nanoskala genau gesteuert werden, typischerweise zwischen einigen zehn und hundert Nanometern. Die Form und die Anordnung der Gitter können so gestaltet werden, dass sie den spezifischen Anforderungen der Anwendung entsprechen.
Produktgenauigkeit:
Höhe/Tiefe: ± 15% Linienbreite: ± 10%
Durchmesser: ± 10% Defektbereich: < 1%
Spezifikationen für das Screening finden
Ähnliche Produkte, die Sie interessieren könnten
Ähnliche Produkte
Sie können das gewünschte Produkt nicht finden?
Wir bieten Ihnen einen auf Ihre Bedürfnisse zugeschnittenen Bearbeitungsservice.
Neueste Nachrichten
Die Geschichte unserer Fähigkeiten, unserer Forschung und des sich wandelnden Gesichts unseres Unternehmens.
Unterschiede zwischen ICPCVD und PECVD bei der Herstellung von Siliziumnitridschichten
Unterschied zwischen ICPCVD- und PECVD-Herstellung von Siliciumnitridschichten ICPCVD (
Veränderung des Brechungsindex und des Absorptionskoeffizienten von amorphem Silizium bei verschiedenen Wellenlängen
Variation des Brechungsindex und des Absorptionskoeffizienten von amorphem Silizium bei verschiedenen Wellenlängen Bei der Untersuchung der optischen Eigenschaften von amorphem Silizium
PECVD versus Magnetron-Sputtern: Welche Technik ist besser für die Herstellung amorpher Silizium-Dünnschichten?
PECVD versus Magnetron-Sputtern: Welche Technik ist besser für die Herstellung amorpher Silizium-Dünnschichten? Silizium-Dünnschichten
