Herstellung von dünnen Schichten aus Titannitrid (TIN) durch ALD-Verfahren
ALD-Verfahren zur Herstellung von dünnen Schichten aus Titannitrid (TiN) durch Atomlagenabscheidung (ALD)
Produktliste
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Transmissionselektronenmikroskopie (TEM)
Starke, chemisch resistente, kohlenstofffreie und flache Siliziumnitridfilme sind ideal für Mikroskopieanwendungen.
Transmissionselektronenmikroskopie (TEM)
Es gibt eine bessere Abbildung, eine bessere Durchlässigkeit für Gase oder Flüssigkeiten, einen Druckausgleich, die Möglichkeit der Diffusionstrennung von Gasen und eine geringere experimentelle Kontamination.
Synchrotronstrahlung (Röntgenstrahlen)
Siliziumnitridfolie mit hoher Durchlässigkeit, guter Festigkeit und Härte, Korrosionsbeständigkeit, geringer Streuung, einfach herzustellen und zu verarbeiten, geeignet für Röntgendurchleuchtungsfenster
Transmissionselektronenmikroskopie (TEM)
Hohe Lichtdurchlässigkeit, niedriger Brechungsindex, hohe Temperaturbeständigkeit und gute chemische Stabilität. Geeignet für optische Anwendungen im sichtbaren, ultravioletten und infraroten Wellenlängenbereich
Transmissionselektronenmikroskopie (TEM)
Funktions-Chips
Vollständige Palette von Chips für Gasphase, Flüssigphase, thermische, optische, mechanische, mikrofluidische, elektrische, kryogene usw.
Transmissionselektronenmikroskopie (TEM)
Höhere Transparenz, höhere Stabilität, kleinere Aperturen und bessere mechanische Eigenschaften für eine bessere Auflösung und Stabilität des Elektronenmikroskops
Anwendungsbereiche
Über die Anwendungsbereiche des Chips
Anwendungsbereiche
Anwendungsbereiche
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Wir bieten maßgeschneiderte Dienstleistungen für die Bearbeitung von Spänen an.
Über uns
Unsere Stärken
Globale Versorgung
Unsere Produkte können in die ganze Welt verschickt werden
Hohe Qualität
Ultrastarke Stütze, Drucktoleranz (PSI): 60, Druck <250Mpa
Superflach
Oberflächenrauhigkeit: <0,3nm, Dickenkonsistenz: <5 %
Ultra sauber
Saubere und spanfreie Folie, hergestellt in einem Reinraum der Klasse 100
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