Herstellung von dünnen Schichten aus Titannitrid (TiN) im ALD-Verfahren Dünne Schichten aus Titannitrid (TiN), die im ALD-Verfahren hergestellt werden, weisen eine hohe Härte und eine niedrige Temperatur auf.

Unterschiede zwischen ICPCVD und PECVD für die Herstellung von Siliziumnitrid-Dünnschichten ICPCVD (induktiv gekoppelt)

Variation von Brechungsindex und Absorptionskoeffizient von amorphem Silizium bei verschiedenen Wellenlängen Bei der Untersuchung der optischen Eigenschaften von amorphem Silizium werden der Brechungsindex (n) und der Absorptionskoeffizient (k)

PECVD vs. Magnetronsputtern: Welche Technologie ist für die Herstellung amorpher Silizium-Dünnschichten besser geeignet? Die Forschung an Silizium-Dünnschicht-Solarzellen ist ein internationaler Hotspot auf dem Gebiet der Fotovoltaik.

Welche Eigenschaften und Anwendungen haben Siliziumdioxidschichten, die durch Elektronenstrahlverdampfung hergestellt werden? Siliziumdioxid ist eine anorganische Verbindung mit der chemischen Formel SiO2, die eine Kombination aus Silizium und Sauerstoff ist

Was sind die Merkmale und Anwendungen von Vanadiumdioxid durch Magnetronsputtern Magnetronsputtern ist weit verbreitet in der Herstellung von VO2 dünne Schichten verwendet, ist das Zielmaterial in der Regel in hoher Reinheit verwendet

Eigenschaften und Anwendungen von Titannitrid Titan-Nitrid-Folie (TiN) ist ein wichtiges Material für Hartbeschichtungen und die erste industriell hergestellte und weit verbreitete Folie.

Was sind die besonderen Eigenschaften von Nanofilmen? Die Nanowissenschaft und -technologie ist eine neue und umfassende Wissenschaft, die sich seit den 1980er Jahren entwickelt hat.