1.0ハーバー半導体https://www.nanofab.com.cn/jarich600338<blockquote class="wp-embedded-content" data-secret="WQ5d00jhYL"><a href="https://www.nanofab.com.cn/ja/インサイト-2/アプリケーション/マグネトロン・スパッタリングによるvo2の準備/">マグネトロンスパッタリング法で作製した二酸化バナジウムの特性と用途について</a></blockquote><iframe sandbox="allow-scripts" security="restricted" src="https://www.nanofab.com.cn/ja/インサイト-2/アプリケーション/マグネトロン・スパッタリングによるvo2の準備/embed/#?secret=WQ5d00jhYL" width="600" height="338" title="「マグネトロンスパッタリング法で作製した二酸化バナジウムの特性と用途とは」 - ハーバー半導体" data-secret="WQ5d00jhYL" frameborder="0" marginwidth="0" marginheight="0" scrolling="no" class="wp-embedded-content"></iframe><script> /*! This file is auto-generated */ !function(d,l){"use strict";l.querySelector&&d.addEventListener&&"undefined"!=typeof URL&&(d.wp=d.wp||{},d.wp.receiveEmbedMessage||(d.wp.receiveEmbedMessage=function(e){var t=e.data;if((t||t.secret||t.message||t.value)&&!/[^a-zA-Z0-9]/.test(t.secret)){for(var s,r,n,a=l.querySelectorAll('iframe[data-secret="'+t.secret+'"]'),o=l.querySelectorAll('blockquote[data-secret="'+t.secret+'"]'),c=new RegExp("^https?:$","i"),i=0;i<o.length;i++)o[i].style.display="none";for(i=0;i<a.length;i++)s=a[i],e.source===s.contentWindow&&(s.removeAttribute("style"),"height"===t.message?(1e3<(r=parseInt(t.value,10))?r=1e3:~~r<200&&(r=200),s.height=r):"link"===t.message&&(r=new URL(s.getAttribute("src")),n=new URL(t.value),c.test(n.protocol))&&n.host===r.host&&l.activeElement===s&&(d.top.location.href=t.value))}},d.addEventListener("message",d.wp.receiveEmbedMessage,!1),l.addEventListener("DOMContentLoaded",function(){for(var e,t,s=l.querySelectorAll("iframe.wp-embedded-content"),r=0;r<s.length;r++)(t=(e=s[r]).getAttribute("data-secret"))||(t=Math.random().toString(36).substring(2,12),e.src+="#?secret="+t,e.setAttribute("data-secret",t)),e.contentWindow.postMessage({message:"ready",secret:t},"*")},!1)))}(window,document); //# sourceURL=https://www.nanofab.com.cn/wp-includes/js/wp-embed.min.js </script>https://www.nanofab.com.cn/wp-content/uploads/2024/04/f0e8ed5eb3e6e3a86aad56c3a05b7bc.png1190799磁控溅射是一种广泛使用的物理气相沉积技术，用于制备各种薄膜材料，包括二氧化钒（VO₂）。这种方法对于生产功能性薄膜尤其有效，因为它具有高度控制的沉积过程和能够生成高质量薄膜的能力。通过磁控溅射技术，二氧化钒薄膜的制备不仅保证了材料的高性能，也拓宽了其在高科技领域中的应用范围。